高輝度LED用ナノインプリント装置ST50S-LEDを開発(LED素子のさらなる輝度向上に貢献)

2011年5月18日

当社は、このたびLED素子のさらなる輝度向上を実現するナノインプリント装置「ST50S-LED」を新たに開発し、5月19日から21日まで当社沼津本社・工場および御殿場工場で開催されます『第9回東芝機械グループソリューションフェア2011』に出展します。

近年急成長を続けるLED市場においては、年を追うごと輝度向上が求められています。
輝度向上の解決策としては、ナノインプリント技術を用い、サファイア基板上や化合物半導体膜を形成してあるサファイア基板上に、3次元パターンを構成することで、内部量子効率および外部発光効率を改善し、LEDの高輝度化の実現が可能となります。

当社では、今まで培ったナノインプリント技術、押出成形機のコーター技術を発展させたロール・ツウ・ロール技術等のインテグレーションにより、高輝度LED用ナノインプリント装置「ST50S-LED」を開発しました。本装置により、反りのあるLED基板へのナノメートルオーダの微細形状パターニングが全自動・全面UVインプリント可能となります。

本装置の特徴・基本仕様

• φ4インチLED基板対応のナノインプリント装置
• フィルムモールドを使用した反りのあるウェハ全面へのUVインプリントが可能
• オートローダ搭載による全自動インプリント

価格は、1億5千万円で、初年度10台の販売を予定しています。