深紫外LED市場の確立に貢献する インテグレーションを共同開発

2014年5月14日

フォトニクス結晶プロセス用インプリント装置
フォトニクス結晶プロセス用インプリント装置


 当社は、このたび丸文株式会社、株式会社アルバック、東京応化工業株式会社の3社と理化学研究所・産業技術総合研究所との共同研究で、深紫外LED市場の確立に貢献するフォトニック結晶プロセスインテグレーションシステムの開発に成功しました。

 殺菌、浄水、空気清浄機などの用途が期待される深紫外LEDでは、実用化にあたり外部量子効率を高めることが求められていますが、これまで有効な方法が確立されていませんでした。そのため深紫外線LEDの実用化には光取り出し効率(Light Extraction Efficiency以下LEE)の効率化を実現することが鍵となっています。

 このような市場要求への解決策として、サファイア基板層に直接数ミクロン程度のパターンを形成する従来製法(Patterned Sapphire Substrate 以下PSS)に代わり、このパターンを微細なフォトニック結晶層で形成する方法(Photonic Crystal 以下PhC)を使用した結果、
 1)PSS30%に対し、PhCではLEEが最大80%に改善。
 2)光の透過または反射制御が可能で、従来素子内部で熱に代わってしまってい
  た光を外部に取り出し、エネルギー効率が大幅に向上。
 3)PSSと比べパターンの深さが1/5程度で同様の効果が得られるため、製造
  コストを大幅に削減。
 といった特長をもったフォトニック結晶プロセスインテグレーションシステムの開
 発に成功しました。

 今後4社共同で、開発システムを導入し、国内外の青色・白色LEDおよび深紫外LEDメーカーに向け、量産システム(3.5億円)の販売を予定していきます。(国内総販売元は丸文株式会社が担当します)

 本技術は、5月22日から行われる弊社内覧会ソリューションフェア2014にて出展します。

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