第35回 インターネプコン ジャパン展
2021年1月20日
開催期間 | 2021年01月20日(水) ~ 1月22日(金)10:00~18:00(最終日のみ17:00まで) |
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場所 | 東京ビッグサイト |
アクセス |
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出展概要
東京国際展示場(東京ビッグサイト・有明)にて「第35回 インターネプコン ジャパン展」が開催されます。
弊社は、「5Gを実現する芝浦機械の次世代回路向け成膜技術」のコンセプトのもと、芝浦機械の新しい技術への取り組みとして、
「高速めっきシード層形成装置」のご紹介と従来の無電解めっきの代替となる「微細配線向けドライプロセス技術」を展示いたします。
出展内容(参考出展)
- 高速めっきシード層形成装置の概要
- SAP工法による微細回路
- 基板向け装置による250×300㎜回路基板
出展ブース
- 西展示棟1F(小間番号W3-75)
関連リンク
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