开发出用于高亮度 LED 的纳米压印设备 ST50S-LED（促成 LED 元件的高亮度）

2011-05-18

我们开发了进一步提高 LED 元件亮度的纳米压印设备 ST50S-LED，并将于 5 月 19 日至 5 月 21 日在我们的沼津总部工厂和御殿场工厂举办的 2011 第九届“东芝机械集团产品技术博览会”上展示此设备。

在高速发展的 LED 市场中高亮度正逐年变得越来越重要。
纳米压印技术是更高亮度的关键，因其通过在蓝宝石基板上制作三维图案（其中包括一个形成化合物半导体薄膜的基板）来提高内量子效率和外发光效率，从而保证更高亮度的 LED。

通过整合我们积累的压印技术和基于挤出机的涂布技术的卷对卷技术，我们开发了用于高亮度 LED 的纳米压印设备 ST50S-LED。此设备可实现整个表面自动 UV 压印，在曲面 LED 基板上形成纳米级精细形状的图案。

此设备的功能和基本规格

• 支持 f4-英寸 LED 基板。
• 可实现对薄膜模式的曲面晶片整个表面进行 UV 压印。
• 配备自动装载器实现全自动压印。

我们将价格确定为 1.5 亿日元并预计第一年销售 10 台。